एल्यूमीनियम प्लेट एनोडाइज्ड

1, एनोडाइज्ड एल्यूमीनियम प्लेट ऑक्साइड फिल्म निर्माण का सामान्य सिद्धांत:

एनोड के रूप में एल्युमीनियम प्लेट को इलेक्ट्रोलाइट घोल में रखा जाता है, इलेक्ट्रोलाइटिक क्रिया का उपयोग किया जाता है, ताकि सतह पर एल्युमीनियम ऑक्साइड फिल्म बनने की प्रक्रिया हो, जिसे एल्युमीनियम प्लेट का एनोडाइजिंग कहा जाता है। डिवाइस का कैथोड इलेक्ट्रोलाइटिक समाधान में उच्च रासायनिक स्थिरता वाली सामग्री है, जैसे सीसा, स्टेनलेस स्टील, एल्यूमीनियम, आदि। एनोडाइजिंग एल्यूमीनियम का सिद्धांत मूल रूप से जल इलेक्ट्रोलिसिस का सिद्धांत है। जब विद्युत धारा प्रवाहित होती है, तो कैथोड पर हाइड्रोजन गैस निकलती है; एनोड पर, अवक्षेपित ऑक्सीजन न केवल आणविक ऑक्सीजन है, बल्कि परमाणु ऑक्सीजन (ओ) और आयनिक ऑक्सीजन भी है, जिसे आमतौर पर प्रतिक्रिया में आणविक ऑक्सीजन के रूप में व्यक्त किया जाता है। एनोड के रूप में एल्यूमीनियम को निर्जल एल्यूमिना फिल्म बनाने के लिए उस पर अवक्षेपित ऑक्सीजन द्वारा ऑक्सीकरण किया जाता है, और उत्पन्न ऑक्सीजन एल्यूमीनियम के साथ पूरी क्रिया नहीं करती है, और इसका कुछ हिस्सा गैसीय अवस्था के रूप में अवक्षेपित होता है।

2, एनोडाइज्ड एल्यूमीनियम प्लेट ऑक्सीकरण इलेक्ट्रोलाइटिक समाधान चयन:

एनोडिक ऑक्साइड फिल्म की वृद्धि के लिए एक शर्त यह है कि इलेक्ट्रोलाइट को ऑक्साइड फिल्म को भंग करना चाहिए। हालाँकि, इसका मतलब यह नहीं है कि एनोडाइजिंग से ऑक्साइड फिल्में उत्पन्न हो सकती हैं या परिणामी ऑक्साइड फिल्में सभी घुले हुए इलेक्ट्रोलाइट्स में समान होती हैं।

3, एनोडाइज्ड एल्यूमीनियम प्लेट ऑक्सीकरण प्रकार:

एनोडाइजिंग को वर्तमान स्वरूप के अनुसार डायरेक्ट करंट एनोडाइजिंग, अल्टरनेटिंग करंट एनोडाइजिंग और पल्स करंट एनोडाइजिंग में विभाजित किया गया है। इलेक्ट्रोलाइट के अनुसार, इसे मुख्य समाधान के रूप में सल्फोनिक कार्बनिक एसिड के साथ सल्फ्यूरिक एसिड, ऑक्सालिक एसिड, क्रोमिक एसिड, मिश्रित एसिड और प्राकृतिक रंगीन एनोडाइजिंग में विभाजित किया जा सकता है। फिल्म परत के अनुसार, इसे विभाजित किया जा सकता है: साधारण फिल्म, हार्ड फिल्म (मोटी फिल्म), चीनी मिट्टी की फिल्म, उज्ज्वल संशोधन परत, अर्धचालक बाधा परत और अन्य एनोडाइजिंग। एल्यूमीनियम और एल्यूमीनियम मिश्र धातुओं के लिए सामान्य एनोडाइजिंग विधियां और प्रक्रिया की स्थिति तालिका -5 में दिखाई गई है। प्रत्यक्ष धारा सल्फ्यूरिक एसिड एनोडाइजिंग का अनुप्रयोग सबसे आम है।

4, एनोडाइज्ड एल्यूमीनियम प्लेट ऑक्साइड फिल्म संरचना, गुण:

एनोडिक ऑक्साइड फिल्म में दो परतें होती हैं, एक छिद्रपूर्ण, मोटी बाहरी परत जो ढांकता हुआ गुणों वाली घनी आंतरिक परत के ऊपर बढ़ती है, जिसे बाधा परत (जिसे सक्रिय परत भी कहा जाता है) कहा जाता है। इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी द्वारा, फिल्म की ऊर्ध्वाधर और क्षैतिज सतहों में लगभग सभी धातु की सतह पर लंबवत ट्यूबलर छेद दिखाई देते हैं, जो फिल्म की बाहरी परत के माध्यम से ऑक्साइड फिल्म और धातु इंटरफ़ेस के बीच बाधा परत तक प्रवेश करते हैं। मुख्य अक्ष के रूप में प्रत्येक छिद्र के चारों ओर सघन एल्यूमिना होता है जो एक मधुकोश षट्कोणीय शरीर बनाता है, जिसे कोशिका कहा जाता है, पूरी फिल्म परत अनगिनत ऐसी कोशिकाओं से बनी होती है। अवरोधक परत निर्जल एल्यूमीनियम ऑक्साइड से बनी होती है, जो पतली और घनी होती है, उच्च कठोरता के साथ और करंट के पारित होने को रोकती है। अवरोधक परत की मोटाई लगभग 0.03-0.05μm है, जो कुल झिल्ली का 0.5% से 2.0% है। ऑक्साइड फिल्म की छिद्रपूर्ण बाहरी परत इलेक्ट्रोलाइट धनायनों के अलावा मुख्य रूप से अनाकार एल्यूमिना और थोड़ी मात्रा में हाइड्रेटेड एल्यूमिना से बनी होती है। जब इलेक्ट्रोलाइट सल्फ्यूरिक एसिड होता है, तो सामान्य परिस्थितियों में फिल्म परत में सल्फेट सामग्री 13% -17% होती है। ऑक्साइड फिल्म के अधिकांश उत्कृष्ट गुण छिद्रपूर्ण बाहरी परत की मोटाई और सरंध्रता से निर्धारित होते हैं, जो एनोडाइज्ड पट्टी से निकटता से संबंधित होते हैं।